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化工廢水次亞磷去除劑

簡要描述:化工廢水次亞磷去除劑反應機理:
次亞磷去除劑HMC-P3,采用均相共沉淀技術,可以直接與次亞磷結合生成沉淀,無需轉化為正磷進行處理,能夠讓水中的含磷污染物快速形成不溶性沉淀物而去除。去除效果好,能夠把磷處理至0.5ppm以下,總磷直接達到國家表三排放標準。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時間:2022-11-02
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  • 產(chǎn)品地址:昆山

詳細介紹

品牌其他品牌含量98%
PH值使用范圍2.8-3.5有效物質含量98%
外觀紅色粉末包裝規(guī)格25公斤/袋

化工廢水次亞磷去除劑是一種新型高分子污水處理材料,一般添加到生化尾水中,在含磷廢水中起電中和多核絡合作用。在造紙廢水、尾礦廢水、印染和皮革廢水、電路板廢水和電鍍廢水的除磷處理中,去除率很高。

性能優(yōu)勢:

廣泛應用于電鍍、線路板、磷化、化學鍍、陽極氧化、化學拋光清洗等高含磷廢水

效果明顯,去除快,不影響色度,沉淀少;

除磷后出水清澈,能達到出水標準;

不改變原有的處理流程,靈活添加;

真正的環(huán)?;瘜W品,沒有二次污染。

化工廢水次亞磷去除劑反應機理:

次亞磷去除劑HMC-P3,采用均相共沉淀技術,可以直接與次亞磷結合生成沉淀,無需轉化為正磷進行處理,能夠讓水中的含磷污染物快速形成不溶性沉淀物而去除。去除效果好,能夠把磷處理至0.5ppm以下,總磷直接達到國家表三排放標準。

使用方法:
  在電鍍廢水排放標準表三中要求,磷的排放口排放濃度要低于0.5mg/L,在新環(huán)保法要求下,處理磷指標的重要程度越發(fā)凸顯,在電鍍工序中,化學鎳鍍液中往往使用鈉作為還原劑,因此化學鍍鎳廢水中含有根離子。石灰或者鐵系除磷劑結合的效果。
  次磷去除劑是一種無機復合鹽,由多種無機小分子組合而成,在催化劑的作用下,無機復合鹽離子之間相互結合形成橋鍵,形成正電荷場,能夠吸附根離子生成沉淀,從而把次磷去除。
  次磷去除劑除磷時的工藝設計如下,首先,調節(jié)廢水pH至酸性,而后加入催化劑和次磷去除劑,通過均相共沉淀技術進行沉淀以后,加入次磷絮凝劑進行絮凝沉淀,出水測定磷含量。


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